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X光鍍層測(cè)厚儀儀器可檢測(cè)范圍
更新時(shí)間:2025-06-11   點(diǎn)擊次數(shù):42次
  X光鍍層測(cè)厚儀是一種利用X射線穿透材料并激發(fā)熒光的原理,通過(guò)分析熒光強(qiáng)度來(lái)測(cè)量鍍層厚度的儀器。其檢測(cè)范圍廣泛,以下是其可檢測(cè)的典型范圍及應(yīng)用場(chǎng)景:
  一、X光鍍層測(cè)厚儀可檢測(cè)的鍍層類(lèi)型
  1.金屬鍍層
  常見(jiàn)金屬:金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、錫(Sn)、鋅(Zn)、鐵(Fe)等。
  合金鍍層:如鎳磷合金、錫鉍合金等。
  多層鍍層:可同時(shí)測(cè)量多層結(jié)構(gòu),并分別給出每層厚度。
  2.非金屬鍍層
  塑料、橡膠、油漆等有機(jī)涂層(需配合特定校準(zhǔn))。
  部分無(wú)機(jī)涂層(如陶瓷、玻璃鍍層)。
  二、X光鍍層測(cè)厚儀可檢測(cè)的基材類(lèi)型
  1.金屬基材
  鋼鐵、鋁合金、銅合金、鋅合金、鈦合金等。
  支持復(fù)雜形狀基材(如曲面、凹凸面、微小零件),但需注意測(cè)試點(diǎn)的有效面積。
  2.非金屬基材
  塑料、橡膠、木材、玻璃等(需選擇適合的X射線管電壓和校準(zhǔn)方法)。
  三、厚度檢測(cè)范圍
  1.常規(guī)范圍
  最小厚度:通常可檢測(cè)到0.01微米(10納米)級(jí)別,適用于超薄鍍層(如半導(dǎo)體芯片上的鍍金層)。
  最大厚度:一般可達(dá)幾十微米至數(shù)百微米,具體上限取決于鍍層材料和儀器型號(hào)。
  2.多層鍍層分析
  可測(cè)量最多3~5層的多層結(jié)構(gòu),每層厚度需在儀器靈敏度范圍內(nèi)。
  例如:鋼鐵基材上的Ni/Cu/Au三層鍍層。
  四、X光鍍層測(cè)厚儀元素檢測(cè)范圍
  1.原子序數(shù)范圍
  通??蓹z測(cè)原子序數(shù)≥3(鋰)的元素,但實(shí)際檢測(cè)下限受儀器配置影響。
  輕元素(如Al、Mg):需配備低能量X射線源或真空環(huán)境。
  重元素(如Au、Pb):檢測(cè)靈敏度更高。
  2.濃度范圍
  鍍層中元素濃度可檢測(cè)至ppm(百萬(wàn)分之一)級(jí),適用于微量元素分析。
 

 

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